首页>快讯 > 正文

捷佳伟创:公司开展半导体湿法清洗类设备研发,清洗类设备在经营制造、光刻、刻蚀、沉积等关键制程及封装工艺中均为必要环节,可实现清洗类设备国产化

2023-05-06 07:30:06来源:同花顺iNews


【资料图】

同花顺(300033)金融研究中心5月5日讯,有投资者向捷佳伟创(300724)提问, 董秘你好:贵公司的半导体设备是否能替代日本对我国的半导体设备封锁和限制。

公司回答表示,您好!公司开展半导体湿法清洗类设备研发,清洗类设备在经营制造、光刻、刻蚀、沉积等关键制程及封装工艺中均为必要环节,可实现清洗类设备国产化,打破长期被进口设备卡脖子的局面,极大的提高国产设备市场占有率,为公司进入高阶半导体设备行业奠定基础。此外,公司开展的碳化硅高温退火炉/氧化炉研发项目完成后将促进大尺寸基片碳化硅器件制造设备的研制,实现碳化硅器件制造设备的国产化。谢谢!

点击进入互动平台 查看更多回复信息

标签:

相关新闻

热点